極端紫外線リソグラフィの世界市場規模は、2028年に253億ドルへと成長見通し【市場調査】
リサーチステーション合同会社は、海外市場調査レポート「極端紫外線（EUV）リソグラフィの世界市場：2028年に至るコンポーネント別、エンドユーザー別予測」の販売を開始いたします。
極端紫外線リソグラフィの世界市場規模は2023年で94億ドル、2028年に253億ドル、市場の平均年成長率は21.8%になると予測されています。
【英文市場調査レポート】
極端紫外線（EUV）リソグラフィの世界市場：2028年に至るコンポーネント別、エンドユーザー別予測
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Market by Equipment (Light Sources, Masks and Optics), End User (Integrated Device Manufacturer (IDM) and Foundry) and Region (Americas, Europe and Asia Pacific) - Global Forecast to 2028
https://researchstation.jp/report/MAM/33/Extreme_Ultraviolet_Lithography_2028_MAM3336.html
（レポートの詳細目次は上記URL参照）
レポートは様々な切り口で 極端紫外線（EUV）リソグラフィ市場を区分し、
そのセグメント市場ごとの市場予測データを中心に構成されています。
また各種の市場分析や動向、主要企業プロフィールなども加えて、
同市場の現状や今後の成長性について、概略以下の構成でレポートしています。
【レポート構成概要】
◆極端紫外線リソグラフィの世界市場予測2019-2028年
・市場規模(US$)
・数量(Units)
◆コンポーネント別、市場-2028年
・光源
・光学
・マスク
・その他
※(市場規模US$)
◆エンドユーザー別、市場-2028年
・垂直統合型デバイスメーカー（IDM）
・ファウンドリ
※(市場規模US$) (数量Units)
◆主要国地域別市場-2028年
南北アメリカ
欧州
アジア太平洋
・日本、中国、台湾、韓国
・その他アジア太平洋
※国地域別にエンドユーザー別の細分化データ掲載、詳細は目次参照
◆市場分析
・市場ダイナミクス（促進要因、障壁、機会、課題）
・バリューチェーン分析
・エコシステムマッピング
・プライシング分析
・技術分析
・業界構造分析
・ケーススタディ
・貿易分析
・特許分析
・競合状況
・市場シェア分析
◆極端紫外線リソグラフィの主要企業プロフィール動向
・ASML
・CARL ZEISS AG
・TOPPAN株式会社
・エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
・KLA CORPORATION
・株式会社アドバンテスト
・ウシオ電機株式会社
・SUSS MICROTEC SE
・AGC株式会社
・LASERTEC CORPORATION
その他企業
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