露光装置の世界市場規模、2031年に413億ドルの予測【市場調査】
リサーチステーション合同会社は、海外市場調査レポート「露光装置(Lithography Equipment)の世界市場:2031年予測」の販売を開始いたします。
露光装置の世界市場規模は2022年で221億ドル、2031年に413億ドル、市場の平均年成長率は7.2%になる見込みです。
【英文市場調査レポート】
露光装置(Lithography Equipment)の世界市場:2031年予測
Lithography Equipment Market [Technology: Mask Aligner, Projection, Laser Direct Imaging, Laser Ablation; Packaging Platform: 3D IC, 2.5D interposer, FO WLP Wafer, WL CSP, Embedded Die, Others] - Global Industry Analysis, Size, Share, Growth, Trends, and Forecast, 2023-2031
https://researchstation.jp/report/TMR/1/Lithography_Equipment.php
(レポートの詳細目次は上記URL参照)
レポートは様々な切り口で 露光装置市場を区分し、
そのセグメント市場ごとの市場予測データを中心に構成されています。
また各種の市場分析や動向、主要企業プロフィールなども加えて、
同市場の現状や今後の成長性について、概略以下の構成でレポートしています。
【レポート構成概要】
■露光装置の世界市場予測2023-2031年
・市場規模(US$)
■技術別、市場-2031年
マスクアライナー
投影
レーザーダイレクトイメージング
レーザーアブレーション
※(市場規模US$)
■パッケージングプラットフォーム別、市場-2031年
3D IC
2.5Dインターポーザー
FO WLP ウェハ
WL CSP
フリップチップバンピング
3D WLP
埋め込みダイ
FO WKP パネル
ガラスパネルインポーザ
※(市場規模US$)
■用途別、市場-2031年
アドバンストパッケージング
MEMSデバイス
LEDデバイス
※(市場規模US$)
■主要国地域別市場-2031年
北米
・米国、カナダ
・その他北米
欧州
・英国、ドイツ、フランス
・その他欧州
アジア太平洋
・日本、中国、インド、韓国
・ASEAN
・その他アジア太平洋
中東アフリカ
・GCC諸国、南アフリカ
・その他中東アフリカ
南米
・ブラジル
・その他南米
※地域別に各種セグメント別の細分化データ掲載、詳細は目次参照
■市場分析
市場ダイナミクス(促進要因、障壁、機会)
プライシング分析
SWOT分析
業界構造分析
競合状況
市場シェア分析
■露光装置の主要企業プロフィール動向
Ultratech Inc.
SUSS Microtech Lithography GmbH
Canon USA Inc.
株式会社ニコン
Shanghai Micro Electronics Equipment Co., Ltd.
Rudolph Technologies Inc.
EV Group Inc.
ASML System BV
ウシオ電機株式会社
ORC
Orbotech
株式会社SCREENホールディングス
(全170頁)
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