「フォトリソグラフィー (装置) の世界市場予測 2020年：i-line・KrF・ArF Dry・ArFi・EUV」 - 調査レポートの販売開始

株式会社グローバルインフォメーションは、市場調査レポート「フォトリソグラフィー (装置) の世界市場予測 2020年：i-line・KrF・ArF Dry・ArFi・EUV」 (MarketsandMarkets発行) の販売を12月8日より開始いたしました。

フォトリソグラフィー装置市場は、2015年から2020年にかけて4.3%のCAGRで成長すると予測されています。同市場の主な促進因子は、先進技術の発明です。加えて、政府のサポートおよび半導体産業の拡大といったその他の要因も、フォトリソグラフィー装置市場の成長を加速させています。

当レポートは、世界のフォトリソグラフィー装置市場を取り上げ、装置タイプ、光源、波長および地域別の市場統計、市場の主な促進因子、阻害因子、および機会の分析、および主要企業の詳細な競合情勢の分析などを提供しており、主要企業各社のプロファイルも盛り込み、お届けいたします。

第1章 イントロダクション
第2章 調査手法
第3章 エグゼクティブサマリー

第4章 重要考察
●フォトリソグラフィー装置市場における魅力的な成長機会
●フォトリソグラフィー装置市場：波長別
●アジア太平洋におけるフォトリソグラフィー装置市場
●米国は最大の市場シェアを構成
●フォトリソグラフィー装置市場においてEUVは最も急成長する見込み

第5章 市場概要
●イントロダクション
●市場区分
●市場ダイナミクス

第6章 産業動向
●イントロダクション
●ポーターのファイブフォース分析

第7章 フォトリソグラフィー装置市場：光源別
●イントロダクション
●水銀灯
●エキシマレーザー
●フッ素レーザー
●レーザー生成プラズマ

第8章 フォトリソグラフィー装置市場：波長別
●イントロダクション
●370NM - 270NM 波長
●370NM - 170NM 波長
●170NM - 70NM 波長
●70NM - 1NM 波長

第9章 フォトリソグラフィー装置市場：種類別
●イントロダクション
●DUV (深紫外線)
●EUV (極端紫外光)

第10章 フォトリソグラフィー装置市場：地域別
●イントロダクション
●北米
●欧州
●アジア太平洋
●他の地域 (ROW)

第11章 競合情勢
●概要
●市場シェア分析
●競合状況・動向

第12章 企業プロファイル (概要・製品&サービス・財務・戦略・発展動向)
●イントロダクション
●ASML HOLDING N.V.
●ニコン
●キャノン
●JEOL LTD.
●NUFLARE TECHNOLOGY INC.
●ULTRATECH, INC.
●RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.
●SUSS MICROTEC AG
●NIL TECHNOLOGY
●EV GROUP

第13章 付録
図表

【商品情報】
フォトリソグラフィー (装置) の世界市場予測 2020年：i-line・KrF・ArF Dry・ArFi・EUV
Photolithography (Equipment) Market by Type (i-line, KrF, ArF Dry, ArFi, and EUV), Light Source (Mercury Lamp, Excimer Laser, Fluorine Laser, and Laser Produced Plasma), Wavelength, and Region - Forecast to 2020
● 発行: MarketsandMarkets
● 出版日: 2015年12月04日
● ページ情報: 128 Pages

【当レポートの詳細目次】
http://www.gii.co.jp/report/mama346272-photolithography-equipment-market-by-type-i-line.html

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