「薄層蒸着技術:CVD、イオン注入、エピタキシー」 - 調査レポートの取り扱いを開始

2014-05-16 15:30
株式会社グローバルインフォメーション

株式会社グローバル インフォメーションは、BCC Researchが発行した市場調査レポート「Thin-layer Deposition: CVD, Ion Implantation and Epitaxy (薄層蒸着技術:CVD、イオン注入、エピタキシー)」の販売を開始しました。

当レポートは、世界の薄層蒸着技術市場の現状を明らかにするとともに、2019年までの見通しを示したもので、主な技術であるCVD、イオン注入、分子線エピタキシー(MBE)を中心に各種用途向け市場の動向や業界の構造を解明し、概略下記の構成でお届けいたします。

第1章 イントロダクション

第2章 サマリー

第3章 概要

第4章 業界の構造

第5章 薄膜技術

第6章 CVD、イオン注入、エピタキシー技術の市場

第7章 マイクロエレクトロニクス市場におけるCVD、イオン注入、エピタキシー技術

第8章 医療機器市場におけるCVDとイオン注入技術

第9章 切削工具市場におけるCVD技術

第10章 産業市場におけるCVDとイオン注入技術

【商品情報】
薄層蒸着技術:CVD、イオン注入、エピタキシー
Thin-layer Deposition: CVD, Ion Implantation and Epitaxy
● 発行: BCC Research
● 出版日: 2014年05月07日
● ページ情報: 121 Pages

【当レポートの詳細目次】
http://www.gii.co.jp/report/bc301241-thin-layer-deposition-cvd-ion-implantation-epitaxy.html

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